雖然在市值方面，北方華創(chuàng )（002371.SZ）僅排在半導體行業(yè)第四，但公司的2024年的歸母凈利潤卻位列半導體行業(yè)第一，等于市值排名行業(yè)第一和第二的中芯國際與海光信息之和。

2025年4月25日，北方華創(chuàng )發(fā)布了2024年年報和2025年第一季度季報。去年公司營(yíng)業(yè)收入為298.38億元，同比增長(cháng)35.14%；歸母凈利潤為56.21億元，同比增長(cháng)44.17%，無(wú)論營(yíng)收還是利潤，都創(chuàng )下了公司上市來(lái)的最高值。

并且，從增長(cháng)性的角度來(lái)看，這是公司連續第5年營(yíng)收增長(cháng)率超過(guò)30%（2020年至2024年），連續第10年超過(guò)歸母凈利潤增長(cháng)率超過(guò)30%（2015年至2024年）。

2025年第一季度，在去年高增長(cháng)的基礎上，北方華創(chuàng )再次展現了強大的爆發(fā)力，實(shí)現營(yíng)收82.06億元，同比增長(cháng)37.90%，實(shí)現歸母凈利潤15.81億元，同比增長(cháng)38.80%。

市值排名前十的半導體公司

值得一提的是，北方華創(chuàng )的利潤表現，放到整個(gè)半導體行業(yè)也是數一數二的存在。據芯辰大海統計，在全行業(yè)165家上市公司（中信證券行業(yè)分類(lèi)）中，北方華創(chuàng )56.21億元的歸母凈利潤可以排到全行業(yè)第一。約等于市值排名行業(yè)第一的中芯國際（去年歸母凈利潤36.99億元）和市值排名第二（去年歸母凈利潤19.31億元）的之和。

以下是北方華創(chuàng )在經(jīng)營(yíng)方面取得的具體成績(jì)：

刻蝕設備收入超82億元，高出中微公司約8億元

眾所周知，北方華創(chuàng )和中微公司是我國刻蝕領(lǐng)域的雙雄，二者可謂各有千秋。在技術(shù)上，中微公司的刻蝕機已經(jīng)廣泛用于從65納米到5納米及更先進(jìn)工藝的眾多刻蝕應用中（北方華創(chuàng )并沒(méi)有在年報中披露公司刻蝕機的技術(shù)水準）。但從收入上來(lái)看，北方華創(chuàng )卻是穩壓中微公司一頭的。

北方華創(chuàng )2024年年報顯示，公司在刻蝕設備領(lǐng)域，已形成了ICP、CCP、Bevel刻蝕設備、高選擇性刻蝕設備和干法去膠設備的全系列產(chǎn)品布局。2024年公司刻蝕設備收入超80億元。中微公司財報顯示，2024年公司刻蝕設備收入約72.77億元。

薄膜沉積設備收入首超100億元

北方華創(chuàng )財報顯示，公司在薄膜沉積設備領(lǐng)域，已形成了物理氣相沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、原子層沉積（ALD）、 外延（EPI）和電鍍（ECP）設備的全系列布局。2024年公司薄膜沉積設備收入超100億元。這是北方華創(chuàng )薄膜設備收入首次超過(guò)100億元（2023年為超過(guò)60億元）。

據了解，薄膜沉積設備作為半導體制造的核心裝備，通過(guò)物理氣相沉積（PVD）、化學(xué)氣相沉積（CVD）、外延生長(cháng) （EPI）、電化學(xué)沉積（ECP）及原子層沉積（ALD）等技術(shù)，在基底表面精準構筑納米級功能膜層，這些膜層在芯片中 扮演重要的角色。根據權威機構數據，2023年薄膜沉積設備在集成電路設備資本支出中的占比為22.1%。

正式進(jìn)軍離子注入設備市場(chǎng)

2025年3月，北方華創(chuàng )正式宣布進(jìn)軍離子注入設備市場(chǎng)，已發(fā)布的離子注入設備主要有2種，分別是12英寸浸沒(méi)式離子注入設備和12英寸離子注入設備。

其中，12英寸浸沒(méi)式離子注入設備主要用于硅晶圓器件的高劑量、低能量的離子注入摻雜工藝，面向存儲和邏輯 領(lǐng)域的互補金屬氧化物半導體器件的摻雜(CMOSDeviceDoping)、加氫鈍化 （H-Passivation）、超淺結摻雜（UltraShallowJunctionDoping）、SOI （Silicon-on-Insulator）等工藝應用需求

12英寸離 子注入設備主要用于12英寸邏輯、存儲芯片B、P、As等元素的注入。該設備可精準控制 注入角度，注入劑量，從而獨立控制摻雜濃度和節深，調控晶體管電性能。