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這家成立不到4年的公司,造出了國產(chǎn)28納米光刻機?

2025/3/29 19:35:34      挖貝網(wǎng) 周路遙

半導體領(lǐng)域,當前火的話(huà)題莫過(guò)于近風(fēng)頭大盛的新凱來(lái)(SiCarrier Technologies)了。

近期在上海舉行的SEMICON China 2025上,這家成立不到四年的公司,一口氣展出了30余款產(chǎn)品,包括: 

擴散裝備RTP(三清山)、EPI(峨眉山);刻蝕產(chǎn)品ETCH(武夷山);薄膜產(chǎn)品PVD(普陀山)、CVD(長(cháng)白山(603099))、ALD(阿里山);光學(xué)檢測產(chǎn)品岳麓山BFI、丹霞山DFI、蓬萊山PC、莫干山MBI;光學(xué)量測產(chǎn)品天門(mén)山IBO、天門(mén)山DBO;PX量測產(chǎn)品沂蒙山AFM、赤壁山-XP XPS、赤壁山-XD XRD、赤壁山-XF XRF;功率檢測產(chǎn)品RATE-CP、RATE-KGD、RATE-FT。 

從公開(kāi)資料來(lái)看,這些設備的技術(shù)含量還相當高。

行業(yè)分析稱(chēng),新凱來(lái)此次展示的高精度薄膜沉積設備采用獨特的反應腔設計,能夠實(shí)現納米級薄膜均勻性控制,技術(shù)參數已接近國際領(lǐng)先水平。新一代涂膠顯影設備則突破國外技術(shù)壟斷,在分辨率和產(chǎn)能方面達到業(yè)界先進(jìn)標準,可滿(mǎn)足14納米及以上制程工藝需求。

另外,活動(dòng)現場(chǎng)一名新凱來(lái)工作人員表示,其中一些設備(包括不在產(chǎn)品清單上的刻蝕設備)能夠支持5納米芯片的生產(chǎn)。

而且,這還不是讓人震驚的,讓人震驚的是,新凱來(lái)連光刻機都造。

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據多家外媒報道,新凱來(lái)已成功研發(fā)出適用于 300 毫米晶圓的 28nm 浸潤式光刻系統,其光源波長(cháng)、套刻精度等核心技術(shù)參數達到國際同類(lèi)產(chǎn)品水平。

這就好比一個(gè)4歲的小孩,突然跑過(guò)來(lái)告訴你,他18般武藝樣樣精通。而且更讓人震驚的是,他還掌握了至高心法——光刻機的制造。

新凱來(lái)是何方神圣?

羅馬不是一天建成的。能在這么短的時(shí)間內,取得這樣的成績(jì),新凱來(lái)大概率大有來(lái)頭!

企查查顯示,新凱來(lái)成立于2021年8月,注冊資本15億元,由深圳市國資委全資控股。同時(shí),新凱來(lái)在官網(wǎng)表示,公司核心團隊具備20年以上電子設備技術(shù)開(kāi)發(fā)經(jīng)驗,并聯(lián)合了眾多國內半導體制造設備和零部件合作伙伴,為國內半導體設備廠(chǎng)、FAB廠(chǎng)、電子電器設備廠(chǎng)、研究機構提供先進(jìn)的解決方案,相關(guān)產(chǎn)品廣泛應用于國內頂級制造企業(yè)和研究、測試機構。

據日經(jīng)亞洲報道,新凱來(lái)在深圳政府的支持下,一直在開(kāi)發(fā)芯片制造設備,并將ASML,Applied Materials和Lam Research等公司的機器作為基準。

不過(guò)這依然不能解釋新凱來(lái)為什么能在4年內造出包括28納米光刻機在內的30余款先進(jìn)半導體設備。芯辰大海在查閱資料時(shí),看到了一些小道消息,當然這些消息不保真。

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其70%的核心研發(fā)團隊來(lái)自華為海思和2012實(shí)驗室,技術(shù)路線(xiàn)更延續了華為被制裁后啟動(dòng)的“備胎計劃”。2022年,華為將半導體設備子公司剝離給深圳國資委,這場(chǎng)低調的資本騰挪,讓華為的技術(shù)火種在國資護航下涅槃重生。